于EUV级别的多电子束掩膜写入机，其市场被奥地利的IMSNanofabrication公司，现已被英特尔绝对控股。
另一家霓虹公司NuFlareTechnology也在研发，但市场份额和技术应用广度上都有差距，这是东芝的子公司。
国内的申海微电子旗下也有子公司在负责研发，但精度是90nm到65nm之间。
无论是哪个技术路线的光刻机，都需要有掩膜版，在母版上面去印刷。
会议室里，刚刚因数学突破而燃起的乐观气氛，瞬间被浇灭了。
大家都是业内人士，很清楚梁孟松说的是事实。
没有最顶尖的笔，再完美的设计图也只是一张废纸。
林燃说：“这不是问题，我们虽然没有最先进的笔，但是有次一级的笔。”
林燃看向台下的杨德人说道：“杨院士，你来说说吧。”
随即把舞台交给杨院士。
杨德人站起来，自豪道：“诸位，很荣幸的告诉各位，就在三个月前，由我们浙大的余杭所牵头，联合国内相关单位，历经十余年年攻关的、我国第一台具备商业化能力的高精度多电子束写入机，已经完成了最终测试。
我们以华国古代最伟大的书法家之名，将其命名为——羲之。”
（我国首台6nm的电子束光刻机-羲之，来自HZ市政府官网，不知道为啥国内媒体没咋报道，完全没热度）
“羲之和传统的光刻机不同。”杨院士接着说道：“它不需要掩膜版，而是通过计算机控制，用一道能量极高的、被聚焦到极致的电子束，直接在硅基材料上书写电路。
因此，它可以随时修改设计，反复调试，特别适合芯片研发初期的验证，以及制造像超构透镜母版这样、独一无二的超高精度元件。”
最后杨院士深吸了一口气，报出了那两个让所有人屏息的数字：“它的性能指标，最小稳定线宽为8纳米，电子束定位精度为0.6纳米。”
“这不可能！定位精度0.6纳米？这精度是不是太夸张了？”
“0.6纳米？比老美的精度还要更高？”
“那岂不是意味着我们能造0.6纳米的透镜？卧槽，这回是光源跟不上镜头了。”
杨院士的脸上是掩饰不住的自豪，这可是
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