“是的，一旦初光测试的数据能稳定在65纳米的线宽内，就证明整机的机械协同和光学折射没有任何问题，华国半导体设备的腰杆子，就真正挺直了。”陈立峰在一旁说道。
65nm干式DUV光刻机。
在后世那些动辄7nm、5nm甚至3nm的EUV（极紫外）光刻机面前，65nm听起来似乎有些落后。
但作为一名穿越者，许晨非常清楚，65nm干式光刻机，是华国半导体工业必须跨过去的一道天堑，也是一切高级工艺的基石！
因为物理定律决定了，193nm波长的激光，在空气中（干式）折射的物理极限，最多只能雕刻出65nm的线宽。
只要掌握了65nm干式光刻机，就意味着华国在光刻机最核心的机械控制、光学镜片研磨和光源稳定性上，真正达到了世界一流水平。
而跨过了这一步，接下来的路就清晰了。
只要在镜头和晶圆之间加入一层纯水（即浸没式光刻技术），利用水的折射率，就能把同样的193nm激光波长，等效缩短到134nm。
这样一来，这台65nm的干式光刻机，稍微一升级，就能顺理成章地变成可以制造45nm、28nm甚至通过多重曝光达到14nm工艺的浸没式DUV光刻机！
万丈高楼平地起，而这台65nm干式机，就是那块最坚固的地基。
许晨转过身，沉声说道：“订机票。不要动用集团资源，用个人的名义订两张飞魔都的票，越低调越好。明天一早，我们去上微电子。”
“明白。”陈立峰立刻点头。
整机集成的最后一步，犹如攀登珠穆朗玛峰的最后十米。许晨知道，他必须亲自去现场，见证这个属于华国工业史上的关键时刻。
......
（四章更新，各位读者大大求催更求免费的小礼物，接下来就是65nm的成功，然后到2018年就可以稳定量产，升级一下，就到45nm，2019年的时候制裁开始加大，正好能接上，基本上不会影响到天宇集团，然后光刻机搞出来就是半导体芯片的开发，也是会出一些成果的，有汽车相关也有手机相关的，看到这没有给好评的读者大大们，求一个五星好评谢谢大家！！）