到了这个时候，徐源便也不再卖关子，开始针对刚才的问题回答。
“光刻工厂是一种借助高能同步辐射光源，直接对芯片进行光刻的全新思路，它的出现将彻底改变以往光刻机的历史，推动芯片制造技术新革命。”
……
在徐源的回答下，现场众人对光刻工厂也终于有了清晰的认识。
但心情却是越来越激动。
越发被光刻工厂的强大震撼到。
幸好里面得到消息的赵翔，及时带人出来解了围。
才算结束这一环节的采访，使得徐源能够回到楼内核心区域。
而从赵翔和其他成员的口中，徐源才得知已经有批记者被安排妥当，外面那些都是这段时间刚过来的。
说句丝毫不夸张的话，不知道的都还以为是在召开新闻界大会呢。
值得一提的是，之后科学院院长白新周，以及昨天出席见证光刻实验成功的领导，也相继到达光刻工厂接受记者的采访。
也算是给徐源分担了压力。
由于前来的媒体人员数量实在太多，最终经过商议决定直接召开新闻发布会。
在会上全面介绍光刻工厂。
而发布会地点就选在了光刻工厂大厅。
上午十点。
随着新闻发布会正式开始，徐源作为项目负责人肯定是要主讲。
尽管并没有准备什么演讲稿，但作为自己全程参与成功完成的项目，只需要稍微组织下语言，便能熟练的讲解出来。
于是接下来的时间，徐源先从稳态微聚束理论，介绍这项全新的方向。
并指出光刻工厂可以同时生产不同规格的芯片。
且相当于几十台光刻机运转。
每天全功率运转的话，能制造出来的芯片数量，直接就是一个很大的数字。
虽然只是一座工厂，生产效率却不是海外其他晶圆厂能够相比的。
另外为了能让广大网友更好的理解，他还特意又拿烧水理论来比喻。
把光刻机形容为精准烧出某个度数的热水，光刻工厂则是直接拉满，无论想要多少度的水，直接就去相应的冷却区间接就行。
其中的差距很轻松便能清楚。
加上中间还有着赵翔的补充，算是比较圆满的结束了这一环节。
至于接下来的提问环节，则反倒是徐源喜欢的。
因为相比较刚才被那么多记者围着提
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